小王子分享關(guān)于半導(dǎo)體曝光設(shè)備的價(jià)格

更新時(shí)間：2024-08-30

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半導(dǎo)體光刻設(shè)備目前對(duì)于半導(dǎo)體的高效量產(chǎn)來(lái)說(shuō)是，但據(jù)稱它是精密的機(jī)器，而且價(jià)格昂貴。

半導(dǎo)體曝光設(shè)備中使用的光源的波長(zhǎng)越短，可以形成的圖案越精細(xì)，并且曝光設(shè)備變得越昂貴。據(jù)稱每個(gè)波長(zhǎng)的成本為i-line約4億日元、KrF約13億日元、ArF干式約20億日元、ArF浸沒(méi)式約60億日元、EUV約200億日元。

電路越小，可以實(shí)現(xiàn)越快的信號(hào)傳輸和節(jié)能，但近年來(lái)，由于小型化，無(wú)法忽視工藝成本的增加，包括半導(dǎo)體曝光設(shè)備的價(jià)格。

就半導(dǎo)體光刻設(shè)備所需的性能而言，從半導(dǎo)體制造的成本角度來(lái)看，半導(dǎo)體光刻設(shè)備的吞吐量也是一個(gè)重要指標(biāo)。吞吐量是表示電路圖案曝光速度的性能，隨著吞吐量的增加，每個(gè)硅芯片的制造成本（運(yùn)行成本）會(huì)降低。這在半導(dǎo)體芯片的大規(guī)模生產(chǎn)過(guò)程中非常重要。

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